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以下是比赛开始前的世界纪录、奥运纪录以及各大洲纪录:
晋级规则:资格赛成绩达到14.40公尺的选手可直接晋级(Q),如果达到该成绩的选手少于12人,则资格赛前12名获得决赛资格(q)。下表中「x」代表成绩无效、「r」代表中途退赛。
决赛于2012年8月5日19:35进行。下表中「x」代表成绩无效。
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脉冲雷射沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲雷射烧蚀(pulsed laser ablation,PLA)为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种 , 是一种利用聚焦后的高功率脉冲雷射于真空腔体中对靶材进行轰击,由于雷射能量极强,会将靶材汽化形成电浆蕈状团(plasma plume),并沉淀于基板上形成薄膜。
于镀膜可于高真空、超高真空或通入工作气体(如欲沉积氧化物薄膜,通常会通入氧气作为其工作气体)的环境下进行。
于脉冲雷射沉积的过程中,雷射的能量被靶材吸收之后,能量首先激发靶材内部的电子跃迁,之后再转成热能等使靶材汽化形成电浆态,于电浆云中,包含分子、原子、电子、离子、微粒、融球体等物质。
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